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本文摘自电源网的热门帖 工作原因,很久没有发帖了。最近下班回家,回顾了一下当年的课本《半导体功率器件》一书,略有体会,借此机会,和大家一起学习讨论一下。在这里首先看看相对简单的二极管,后续如有机会,继续讨论BJT,MOSFET。 1. 该贴期望以楼主自问自达或者你问我答的形式进行(楼主学识经验不足,答不上来的大家一起讨论,答错了的恳求各位指正) 2. 该贴旨在让经验型的电源工程师从理论上上更了解器件机理,让学院派接触到实际设计中需要考虑的问题。 首先抛出几个问题: 1.肖特基二极管和快恢复二极管有什么区别? 2.反向恢复时间到底是怎么回事? 3.二极管的功耗算平均电流还是有效值电流? 1肖特基二极管和快恢复二极管有什么区别?从根本上说,肖特基二极管和快恢复二极管在物理结构上是不一样的。肖特基二极管的阳极是金属,阴极是N型半导体;快恢复二极管基本结构仍然是普通的PIN二极管,即阴阳极分别为N和P型半导体。物理结构决定了两者的电特性。 1. 耐压较低(通常150V以下),同等耐压,相同电流下,肖特基二极管的正向压降低于快恢复二极管。 看图,同样耐压50V的SS15和ES1A在1A下,SS15的Vf约0.65V,ES1A的Vf约0.85V。 ![]() ![]() 2. 肖特基二极管载流子只有电子,数多子器件理论上没有反向恢复时间,而快恢复二极管本质上和PIN二极管一样,是少子器件的反向恢复时间通常在几十到几百ns。具体什么是反向恢复,在2贴的问题2中将详细讨论。 3. 额定反向耐压下,快恢复二极管的反向漏电流较小,通常在几uA到几十uA;肖特基二极管的反向漏电流则通常达到几百uA到几十mA,且随温度升高急剧增大。 大家继续补充。 2反向恢复时间到底是怎么回事?反向恢复时间基本的定义是:二极管从导通状态转换成关断状态所需的时间。 从定义可以看出,二极管导通状态下突然施加一个反偏电压,它是不能马上截止的。我们从根本上来看看这是为什么。 ![]() 上面这个图就是我们最常用的PN结二极管最基本结构。其中重掺杂的P型半导体作为阳极,重掺杂的N型半导体作为阴极,为了承受更高的反向耐压,中间有一段较长的区域为接近本征半导体的轻掺杂N型区域。 PN结加正偏电压时,在电场作用下,P区的空穴向N区扩散,N区的电子向P区扩散,于是形成正向电流。对于P区而言,N区过来的电子是少子,同样对于N区而言,P区过来的空穴也是少子。因此,PN结二极管实际上是通过少子来传送电流的,即少子器件。 可见,在正向导通的时候,P区存在大量电子,N区存在大量空穴。 下面以CCM的boost为例,结合仿真来分析一下二极管的反向恢复问题。 ![]() 仿真参数如图所示,下面给出稳态下一个周期的仿真结果图: ![]() 其中V002为MOSFET的Vgs,V(N003,N002)为二极管的Vka,Id(M1)为MOSFET的漏极电流,I(D1)为二极管的阳极流入电流。 当新的开关周期到来,MOSFET驱动电压上升,电感电流开始从MOSFET流过,由于电感电流在短时间内基本不变,因此二极管开始流过的电流开始减小。二极管电流减小到0的时刻即为反向恢复开始的时刻。 由于二极管内部存储的少子导致二极管不能阻断电流,随着MOSFET驱动电压的上升,MOSFET DS之间回路阻抗降低,二极管开始反向流过电流,即少子一反相电流的形式被抽取,直到MOSFET DS之间电压开始下降(开始进入米勒平台),即二极管开始电压开始反偏时,反向电流达到最大值。 此后,反向电流开始减小,二极管反偏电压开始升高,直到MOSFET Vds下降到0,二极管承受全部的反向电压。 从仿真图可以看出,反向恢复过程中,二极管流过较大的反向电流同时承受了较大的反向电压,因此造成了很大的反向恢复损耗。在CCM PFC中,为了降低这个损耗,通常的超快恢复二极管(标称反向恢复时间十几到几十ns)仍然差强人意,需要用到SiC二极管。常用的SiC二极管通常是肖特基结构,反向恢复时间远低于PIN二极管。 3.二极管的功耗算平均电流还是有效值电流? 问题讨论的是二极管的通态损耗,不考虑反向恢复损耗。答案是平均电流。为什么呢? 首先,二极管的基本特性是单向导通,所以电流是单向的(不考虑反向恢复),而二极管的导通压降通常认为是基本不变的,显然,对一定时间内的电流和电压乘积积分,结果就是平均电流和正向压降的乘积,即二极管通态损耗是以平均电流计算的。 那有效值电流是否毫无意义呢?也不见得。纯阻性的损耗通过有效值计算,二极管除了PN结外,还有封装的接触电阻、引线电阻,这些部分的损耗,就是通过有效值来评估的,不过相对于结压降,封装带来的压降大多数情况下可以忽略。 4其他讨论为什么有的二极管温度有的是150℃,有的175℃,有的125℃?厂家通过什么方面区别? 决定最高工作温度的,更多是封装材料和封装工艺,而非半导体本身。对于Si材料,175度通常是没有问题的,SiC和GaN材料,耐温就更高了。同样耐压,同样电流的二极管,PIN的占用wafer面积要远小于肖特基二极管。 关于二极管的耐压: 肖特基的耐压通常最高做到200V(但是台湾的竹懋和PFC品牌据说可以做到300V,而且VF值只有0.3几)其实肖特基的反向恢复时间快,无非就是它的芯片做的非常薄(电流跟晶圆面积大小有关,耐压根晶圆厚度有关),通俗一点讲是A到B之间的距离较短。而超快恢复(SF,MUR,ER系列)的耐压可以做到600V,快恢复(FR,HER,RS系列)的耐压可以做到1000V。 并不是肖特基的耐压最高只能做到200V,而是因为硅材料的肖特基二极管,耐压做到200V以上时,Vf相对于快恢复没有优势,并且反向漏电流非常大。耐压300V,Vf 0.3V的肖特基二极管没有听说过,理论上是不太可能的。肖特基没有反向恢复,是因为载流子全部为电子,没有抽取少子所需的时间。 话说逆变全桥死区时间需要续流的,可不可以靠MOSFET内部的寄生二极管呢,这个寄生二极管反向恢复时间是很影响效率,我的疑问是它跟逆变器容性负载有没有关联,比如LCL滤波参数中的C选的稍微大点,直接影响就是全桥炸管,是不是寄生二极管反向恢复时间过长所致? MOSFET的体二极管反向恢复时间通常是比较长的,即使是经过优化的快恢复系列,高压管子通常也有百ns级的恢复时间,一定程度影响效率。全桥炸管,多数是直通导致,例如dv/dt过大导致Cgd耦合到Vgs的电压达到Vgsth,或者导致MOSFET内部寄生的BJT导通等。 肖特基损坏除了热击穿、反向耐压不足损坏以外,请问还有其它什么条件会导致其损坏呢?ESD?还是? 二极管这种东西,被ESD打坏的可能性是很小的。肖特基最常见的实效就是反向耐压击穿和热击穿。 内容转自电源网热门帖精整理意见观点仅供参考 往期内容 开关电源的16个发展现状 听听大师一步步分析无桥PFC 来自三位电子工程师的工作感悟总结 开关电源工程师面试题--你能打多少分?
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